随着研究深入、技术进步，我国正型光刻胶稀释剂产量及质量不断提升，带动光刻胶稀释剂行业发展速度进一步加快。

光刻胶稀释剂指用于稀释光刻胶的溶剂，能够控制光刻胶的黏度和涂覆性能。光刻胶稀释剂需具备化学稳定性好、纯度高、溶解性好等优势，在半导体领域需求旺盛。乳酸乙酯、N-甲基-2-吡咯烷酮以及丙二醇单甲醚等化学溶剂皆可用作光刻胶稀释剂。

按照用途不同，光刻胶稀释剂可分为正型光刻胶稀释剂以及负型光刻胶稀释剂。正型光刻胶稀释剂简称正胶稀释剂，指用于稀释正型光刻胶的稀释剂，为光刻胶稀释剂代表产品。正型光刻胶稀释剂通常以醚和醋等化学溶剂为原材料制成。随着研究深入、技术进步，我国正型光刻胶稀释剂产量及质量不断提升，带动光刻胶稀释剂行业发展速度进一步加快。

根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年中国光刻胶稀释剂行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，受益于国家对半导体产业发展高度重视，我国光刻胶市场空间不断扩展。2022年我国光刻胶市场规模达到近100亿元，创造历史新高。光刻胶配套试剂可与光刻胶搭配使用，为半导体制造重要材料，占据半导体材料市场近6.5%的份额。光刻胶稀释剂为光刻胶配套试剂细分产品，随着下游行业景气度提升，光刻胶稀释剂市场需求将日益旺盛。

在行业发展初期，受技术壁垒高等因素限制，我国光刻胶稀释剂高度依赖进口。韩国株式会社东进世美肯（Dongjin）、美国陶氏化学（DOW）、美国杜邦公司（DuPont）、德国ALLRESIST GmbH公司等为我国光刻胶稀释剂主要供应商。受国际形势影响，全球多家企业不断收紧对我国的半导体材料及相关技术的出口限制，这为光刻胶稀释剂行业发展带来一定挑战。

近年来，在国家政策支持以及本土企业持续发力等积极因素推动下，我国光刻胶稀释剂市场国产替代进程有所加快。上海新阳、容大感光、广信材料等为我国光刻胶稀释剂主要生产商。目前，上海新阳拟建于上海化学工业区的年产1万吨光刻胶稀释剂新增产能建设项目已取得施工许可证，将于2026年上半年正式投产。

新思界行业分析人士表示，光刻胶稀释剂为光刻胶配套试剂，随着光刻胶市场空间不断扩展，其行业发展态势持续向好。在行业发展初期，我国光刻胶稀释剂高度依赖进口。近年来，伴随国家政策支持以及技术进步，我国国产光刻胶稀释剂市场占比不断提升。

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